煤化工含盐废水分盐零排放工艺模拟研究
0 引言
含盐废水分盐零排放工艺为了达到较高的综合水回收率、实现杂盐的分离提纯并提高盐收率、减少母液和杂盐排放量,会设计和使用物料回流处理工艺,同时增加若干辅助工艺。由于回流路线多且回流水质与初始运行状态存在差异,因此会导致各类污染物含量在不同的工艺单元之间产生关联影响,随着时间的推移也会发生污染物的累积和变化。采用计算机语言编程来进行物料的动态模拟计算,可以初步预判工艺物料在循环过程中对各单元的影响及变化规律,形成量化数据并揭示其变化趋势,为工艺的优化设计、试验研究方向的确立或进一步深入研究提供判断依据。
1 含盐废水分盐零排放概况
1.1 分盐零排放工艺概述
采用膜法分盐、减量化浓缩、蒸发结晶的工艺路线,主体工艺分为4个单元,即纳滤分盐单元、氯化钠结晶单元、硫酸钠结晶单元和杂盐结晶单元。含盐废水经过纳滤膜分盐后,再经过逐级膜浓缩和蒸发结晶、冷冻结晶、熔融结晶等工艺过程,最终实现氯化钠盐和硫酸钠盐的分离,形成氯化钠和硫酸钠副产品,同时回收大量的产品水。工艺流程如图1所示。
该工艺的进水初始水质如表1所示。
表1 分盐零排放装置进水水质
Tab.1 Typical water quality of zero discharge unit for salt separation
项目 |
水质 | 项目 | 水质 |
pH | 9.54 | 电导率/μcm/s | 31 305.17 |
钾K+/mg/L |
131.50 | 总硬度/mg/L | 2.96 |
钠Na+/mg/L |
6 368.24 | 总碱度/mg/L | 62.70 |
Fe2+/mg/L |
0.07 | 浊度/NTU | 6.00 |
Al3+/mg/L |
0.62 | 氨氮/mg/L | 3 |
氯化物Cl-/mg/L |
4 970.60 | 石油类/mg/L | 0.16 |
硫酸盐SO/mg/L |
7 271.39 | 硼/mg/L | 52.68 |
重碳酸盐HCO-3/mg/L |
76.50 | 钡/mg/L | 0.09 |
硝酸盐NO-3/mg/L |
122.14 | 锶/mg/L | 0.85 |
氟化物F-/mg/L |
3.25 | 硅/mg/L | 31.72 |
COD/mg/L |
110 | SiO2/mg/L | 24.37 |
工艺进水的主要污染物为COD和硅,在系统中不断的累积并对减量化膜浓缩系统、蒸发系统、结晶系统产生不利影响,进而影响到盐产品的品质。当高级氧化单元和除硅单元去除效率降低、膜回收率及污染物截留率发生变化时,经过动态水循环之后,与初始状态相比各工艺段积累的污染物会发生变化,进而影响工艺整体的稳定性和可靠性并引发产品水水质的变化。
1.2 主要污染物影响
1.2.1 硅对工艺的影响
硅酸化合物是天然水的主要杂质,一般是由于水与含有硅酸盐和硅铝酸盐的岩石接触后,溶解在水中
1.2.2 COD对工艺的影响
COD会影响工艺中膜装置、蒸发结晶器的运行稳定性,进而导致整体工况波动,同时COD的含量与分离出的盐品质有负相关,COD富集越高,系统稳定性越差,产品水质及结晶盐品质都会受影响,甚至造成产品水水质不合格和结晶盐品质不达标等后果。引用地表水及矿井水作为工业原水的水系统,其末端废水零排放分离出的盐主要为氯化钠和硫酸钠,其品质借鉴目标用途,目前普遍依据工业盐和工业无水硫酸钠行业标准,因此工艺过程中的COD必然需要严格控制,以防止副产品色度及TOC含量超标。
2 模拟计算依据及方法
动态模拟计算的依据为流量平衡、污染物总量平衡原理,运用到的基本假设为,在短时间内减量化膜浓缩系统的回收率、截留率不会发生变化。基本公式如式(1)所示:
式中 Q——含盐水流量,mg/L;
P ——污染物含量,mg/L。
考虑编程语句的简洁规范、程序编写的灵活性特征等特点,本次模拟计算采用C语言对工艺过程进行动态循环模拟,应用Turbo C工具进行编译,对函数进行模块化设计,实现动态的循环计算。计算程序如图2所示。
3 动态模拟计算研究
3.1 初始动态平衡计算
在进行初始状态计算时,需要确定该工艺一些初始设计参数,包括进水流量、硅含量、COD含量。各减量化浓缩段的水回收率、硅去除率、COD去除率、污染物截留率等数据如表2所示。
表2 工艺初始关键参数设置
Tab.2 Setting of initial key process parameters
项目 | NF分盐 | 浓水RO | 高压ROⅠ | 高压ROⅡ | 二级RO | NFⅡ |
有机物截留率(COD)/% | 82.593 | 97.850 | 97.615 | 98.827 | 95.944 | 81.571 |
水回收率/% |
87.050 | 83.042 | 53.644 | 41.852 | 82.301 | 60.209 |
SiO2截留率/% |
73.762 | 98.058 | 97.579 | 98.825 | 97.811 | 48.783 |
装置的性能参数,在初始状态短时间运行是不会改变的。为了控制主要污染物的积累,工艺中纳滤产水侧浓缩减量化单元设置了除硅系统,纳滤浓水侧冷冻结晶之后设置了高级氧化系统。除硅系统硅的去除率为72.106%,高级氧化系统COD去除率为53.036%。系统初始进水流量为195 m3/h,硅含量31.72 mg/L,COD含量为110 mg/L。
在程序代码中纳入”stdio.h”和“math.h”两个头文件,主函数中设置float型变量
3.2 不设置除硅系统的模拟
除硅系统位于纳滤产水侧浓缩减量化单元的浓水RO之后,接受浓水RO排放的浓盐水并对硅污染物进行去除。初始状态计算时,除硅单元去除率72.106%,若不设置除硅设施,则设定除硅去除率为0,重新运行除硅模拟程序。结果并对比如表4所示。
若不设置除硅系统,虽然没有影响纳滤浓水侧运行,但对纳滤产水侧工艺影响很大,除硅系统的出水即高压ROⅠ的进水将达到146.3 mg/L,是原来的3倍多;MVR进水中硅含量将达到307.9 mg/L,是原来的将近4倍;高压ROⅠ产品水增为8倍即6.602 mg/L。从浓水RO进水得知,高压ROⅠ产水硅增加对膜进水影响不大,但对高压ROⅠ和MVR系统进水的影响非常大。由于高压ROⅠ进水硅增加到146.3 mg/L,进而导致浓水硅增加至307.9 mg/L,在浓差极化的作用下,如此高的硅含量,一定会在膜表面形成硅垢,且极难清洗。若MVR进水硅含量300 mg/L,在MVR降膜蒸发器管束内部,也极容易形成粘泥状的硅垢,造成蒸发效率迅速下降,最终导致换热器污堵。
3.3 不设置高级氧化的模拟
在纳滤浓水侧或冷冻结晶后,若不设置高级氧化设施,即设定高级氧化单元COD去除率由53.036%为0,重新运行模拟程序。动态平衡后,结果如表5所示。
如果不设置纳滤Ⅱ的高级氧化装置,最终循环累积导致前端纳滤进水COD明显升高至185 mg/L。虽然对高压RO I产水、浓水RO产水COD影响不大,但会使高压ROⅡ浓水及后续冷冻结晶过程中的COD迅速累积,纳滤Ⅱ浓水COD可达到9 804 mg/L的超高浓度,近7倍于初始状态,冷冻结晶的进水COD达到4 190 mg/L,是初始状态的近4倍。因此尽管冷冻结晶可以减少COD在盐中的累积,但COD的富集倍数过高,一定会影响硫酸钠盐的分离纯度。
表3 工艺初始动态平衡计算结果
Tab.3 Initial dynamic balance results of process
项目 | 总进水 |
纳滤 进水 |
纳滤 产水 |
纳滤 浓水 |
浓水RO 进水 |
浓水RO 浓水 |
除硅系统 出水 |
高压ROⅠ 浓水 |
浓水RO 产水 |
高压ROⅠ 产水 |
高压ROⅡ 浓水 |
NFⅡ 浓水 |
冷冻 进水 |
流量/m3/h | 195 | 195 | 181.5 | 27 | 199.9 | 33.9 | 34.3 | 15.9 | 166 | 18.4 | 15.7 | 7.6 | 21.8 |
COD/mg/L |
110 | 115.6 | 23.1 | 737.3 | 21.3 | 122.9 | 122.9 | 258.8 | 0.4 | 2.5 | 1 253.1 | 1 435 | 1 304 |
SiO2/mg/L |
24.37 | 32.1 | 27.2 | 64.9 | 24.8 | 143.4 | 40 | 84.2 | 0.5 | 0.8 | 110.3 | 61.3 | 96.6 |
表4 除硅系统设置对工艺的影响
Tab.4 Effect of desiliconization system settings on process
项目 | 总进水 |
纳滤 进水 |
纳滤 产水 |
纳滤 浓水 |
浓水RO 进水 |
浓水RO 浓水 |
除硅系统 出水 |
高压ROⅠ 浓水 |
浓水RO 产水 |
高压ROⅠ 产水 |
高压ROⅡ 浓水 |
NFⅡ 浓水 |
冷冻 进水 |
状态 |
SiO2/mg/L | 31.7 | 32.1 | 27.2 | 64.9 | 24.8 | 143.4 | 40.0 | 84.2 | 0.5 | 0.8 | 110.3 | 61.3 | 96.6 | 设置除硅 |
SiO2/mg/L |
31.7 | 32.1 | 27.2 | 65.0 | 25.2 | 143.4 | 146.3 | 307.9 | 0.59 | 6.602 | 110.5 | 61.4 | 96.7 | 不设置除硅 |
表5 高级氧化设置对工艺的影响
Tab.5 Effects of advanced oxidation settings on process
项目 | 总进水 |
纳滤 进水 |
纳滤 产水 |
纳滤 浓水 |
浓水RO 进水 |
浓水RO 浓水 |
除硅系 统出水 |
高压ROⅠ 浓水 |
浓水RO 产水 |
高压ROⅠ 产水 |
高压ROⅡ 浓水 |
NFⅡ 浓水 |
冷冻 进水 |
状态 |
COD/mg/L |
110 | 115.6 | 23.1 | 737.3 | 21.3 | 122.9 | 122.9 | 258.8 | 0.4 | 2.5 | 1 253.1 | 1 435 | 1 304 | 设置高级氧化 |
COD/mg/L |
110 | 185.3 | 37.1 | 1 182.1 | 34.4 | 198.9 | 198.9 | 418.8 | 0.892 | 8.84 | 2 009.1 | 9 804.9 | 4 190.5 | 不设高级氧化 |
3.4 膜回收率变化的影响
3.4.1 回收率变化范围确定
在生产实践中,无论是在何种状态下运行,RO膜运行一段时间后,随着膜表面污堵的日益严重,产水量会下降,产水电导率会增加,回收率会降低,为了维持水通量不变,必须增加进水压力。生产中一般不会人为调整进水压力,而是以产水量下降,产水电导率升高作为膜污染的判据,切换后停机清洗。一般情况下与标准化产水量相比下降10%以上,即需要清洗,过低的产水量变化,也与生产实际不符,因此设定产水量变化为降低至10%~20%,若RO设计初始回收率为η,对应回收率变化范围为0.8η~0.9η。
3.4.2 易污染膜的确定
通过初始动态平衡计算得知,进水COD含量较高的膜装置为高压ROⅠ、高压ROⅡ,其进水COD分别达到了122.9 mg/L、737.3 mg/L。生产实践中,几个单元的故障状态一般不会同时出现,出现一个膜装置故障会进行清洗并切换到备用装置,因此分别针对两个单元的膜,进行回收率变化的动态模拟计算。
3.4.3 高压ROⅠ回收率变化对工艺的影响
高压ROⅠ回收率由53.644%逐步降低至42.915%,对工艺中关键部位影响如图3所示。
随着高压ROⅠ回收率的缓慢下降,对浓水RO进水、高压ROⅠ进水、高压ROⅠ回流水的COD影响很不明显;对MVR进水COD影响不大,呈波动缓慢下降趋势,最终COD降幅小于初始COD的10%。
3.4.4 高压ROⅡ回收率变化对工艺的影响
高压ROⅡ回收率由41.85%逐步降低至33.48%,对工艺中关键部位影响如图4。
可见,高压ROⅡ回收率下降后,高压ROⅡ浓水、纳滤Ⅱ会流水、冷冻结晶进水、高级氧化进水等COD含量也呈现下降趋势。初始回收率下降10%后,COD含量的下降幅度较大,随后逐步趋缓。但从总体来看,对各部分的COD含量下降绝对幅度影响并不明显。
3.5 纳滤Ⅱ浓水回流量的影响
纳滤Ⅱ的回流量变化会改变冷冻结晶的进水和纳滤的进水水质。因此模拟人工调节回流比变化的影响,初始状态回流比为80.26%,增大和减少回流比并进行模拟计算,以10%为间隔,设定10%~100%的回流比。母液回流比对冷冻结晶工艺影响见图5。
结果表明,回流比即便在如此大范围内变动,对冷冻结晶之前的工艺状态影响很小;随着回流比的增加,冷冻结晶回流水、冷冻结晶进水、冷冻结晶母液和纳滤Ⅱ进水的COD含量都会缓慢趋升,但影响幅度并不明显。
4 实际运行情况
本次模拟水质为装置设计水质,该分盐零排放装置投用后,实际水质与模拟水质有差别,主要在硬度成分的差异,实际进水硬度达260 mg/L,硅含量与设计值接近,但在初始调试中并没有投用除硅设施(考虑成本因素),造成高压ROⅠ后蒸发器结垢严重。通过XRF分析得知,其垢样主要成分比例见表6。
在没有投用除硅设施和超高硬度进水的情况下,造成了后续蒸发器的严重结垢,其成分主要为硅垢和硬度盐结垢,这与模拟判断的结果一致。在装置性能考核前,业主要求控制纳滤进水硬度达到设计值(模拟值),乙方通过预处理技术改造,增大了软化单元的负荷,实现了硬度实际值与设计值接近,同时也投用了除硅设施,大幅延长了蒸发器运行周期。
表6 蒸发器垢样主要成分比例
Tab.6 Main components of evaporator scale
项目 |
蒸发器(成分比例)/% |
SiO2 |
42.54 |
MgO |
29.6 |
CaO |
21.84 |
Na2O |
3.42 |
5 结论
除硅系统和高级氧化系统对系统中硅和有机物的去除至关重要,否则部分环节COD可累积达到近7倍于原始状态;若不设置除硅系统,MVR进水中硅含量将达到原始状态的近4倍;初步判定系统中易污染膜为高压ROⅠ和高压ROⅡ,其回收率会随着污染程度加深而逐渐降低;随着高压ROⅠ回收率的缓慢下降,受关联部分COD呈波动缓慢下降趋势;高压ROⅡ回收率下降后,受关联部分COD含量呈现下降趋势,初始回收率下降10%后,COD含量的下降幅度较大,随后逐步趋缓,总体下降绝对幅度并不明显。
冷冻结晶的回流比会影响到冷冻结晶系统,通过模拟初步判断,在有机物去除效果不变的情况下,增大回流量后,母液可以大幅减少,进而减少了杂盐(危废物)的外排量,但对系统污染物COD的变化影响并不大。